中微半导体设备(上海)股份有限公司
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产品详情
Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备
Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备的图片
参考报价:
面议
品牌:
中微公司
关注度:
29
样本:
暂无
型号:
Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备
产地:
上海
信息完整度:
典型用户:
暂无
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认证信息
 
名 称:中微半导体设备(上海)股份有限公司
认 证:工商信息已核实
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产品简介

产品特点

双反应台腔体设计

低电容耦合3D线圈设计

高抽速大容量涡轮泵

双通道进气

精密的腔体温控和RF窗口温控系统

先进的高致密性、耐等离子体侵蚀涂层工艺多区动态温控静电吸盘

13兆赫或400千赫脉冲偏压系统

可选的集成除胶反应腔

竞争优势

离子浓度和离子能量独立可控

高排气量和更宽的工艺窗口

优秀的刻蚀均匀性

优异的高深宽比刻蚀性能

高生产效率,低生产成本(CoO)


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